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臭氧水處理系統PAP-SC-3000PAP-SC-3000
氧化和清潔硅片
AOP處理廢水
IMEC和RCA清潔流程
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高級氧化工藝AOP
三相系統
生物降解DOC
滅菌
消毒CIP
半導體&光伏
飲用水和裝瓶廠
制藥和醫療技術
特別是在半導體加工中,需要完全清潔的臭氧系統。在處理過程中從臭氧系統發射到半導體表面的任何金屬和顆粒(Wafer/IMIC/RCA/SOM等)都會影響芯片的質量。包括其組件——例如臭氧發生器COM-AD或臭氧監測器WM——在內,Anseros的PAP-SC系統完全不含與臭氧接觸的金屬。無論是否有酸,它們都可以進行清潔的濕法和干法加工。為了確保安全,PAP-SC系統包括一個CAT-HO臭氧破壞器。
去離子水流量:100 - 4000 l/h
O3:1 - 100 ppmw
與臭氧接觸的材料:PFA、石英
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